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氬離子拋光（離子研磨CP）

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氬離子拋光（離子研磨CP）

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項目介紹

氬離子拋光技術(shù)/離子研磨CP（Cross section Polisher）用于SEM、EPMA、EBSD等樣品的制備。

依靠離子束轟擊制備樣品剖面，可以獲得表面平滑的樣品，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料，而不會對樣品造成機械損害。

去除損傷層，從而得到高質(zhì)量樣品。

樣品要求

1.送樣前需要對樣品進行預(yù)處理：樣品預(yù)磨拋，樣品要磨平，樣品的上下表面要平行，樣品拋光面至少用4000目砂紙磨平，在顯微鏡下看起來光滑，不粗糙;

2. 送測樣品的尺寸要求:塊狀樣品：以待拋光區(qū)域為中心點，樣品直徑不超過30mm、厚度0~20mm。（超出部分需要磨平）粉末樣品：10g以上;

3. 樣品準備2-3片；

4. 預(yù)約時認真填寫樣品信息以及測試目的，必要時上傳參考圖片或文件。

項目案例
常見問題
1、何時需要用到氬離子拋光（離子研磨CP）?

當(dāng)你需要獲得一個無損傷、無假象、能真實反映材料原始結(jié)構(gòu)的高質(zhì)量平整截面（用于SEM/EBSD等觀察）時，得用CP。

2、離子研磨 vs. FIB：如何選擇？

CP：適合大面積、無損傷截面（如電池極片、LED芯片層析）。FIB：適合微區(qū)精準切割（如TEM ），但需后續(xù)CP去除鎵損傷層。

氬離子拋光（離子研磨CP）

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