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等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）

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項目介紹

等離子體經受激、分解、離解和離化后，這些具有高反應活性的中性物質被吸附到較低溫度的襯底表面上，發(fā)生非平衡的化學反應沉積生成薄膜。

樣品要求

1、適用于的樣品尺寸：43*2英寸、10*4英寸、4*6英寸

2、反應氣體：CF4/O2、N2、N2O、SiH4/N2、NH3

3、下電極溫度：室溫-400℃可調

4、鍍膜均勻性：<±3%

5、RF射頻源：高頻13.56MHz 功率0-300W；低頻50-460KHz 功率0-500W

6、干燥固體樣品，樣品表面干凈，無油污。

項目案例

等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）

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